Trabajo de seminario para optar por el título de Ingeniero en Materiales, 2006.
Directores: Dra. Davenport, Alison; Dr. Afseth, Andreas.
Tutor: Dr. Carranza, Ricardo.
Lugar de realización: DNV (Det Norske Veritas), Dublin, Ohio. Laboratorio de Tecnología de Corrosión y Materiales EEUU.

Las aleaciones de aluminio AA5005 son utilizadas extensamente en aplicaciones para arquitectura, como cladding, por Gran Breta¤a y los principales países pertenecientes a la Unión Europea. En esta calse de aplicaciones es deseable producir superficies rugosas con la finalidad de reducir la reflexión de la luz, por lo cual previo al anodisado las aleaciones de Al se tratan con soluciones alcalinas para alcanzar la rugosidad deseada. Este proceso de ataque está altamente influenciado por la composición química y la microestructura de las aleaciones y además por la composición química de las soluciones. La siguiente investigación está dirigida a estudiar la influencia de la composición química de las soluciones sobre la velocidad de ataque del aluminio, para lo cual se utilizó aluminio ultra puro [99.999 por ciento Al] y se lo atacó con soluciones alcalinas conteniendo iones disueltos de varias series de aleaciones modelos. Se determino la velocidad de ataque a 60 grados C en un período de 10 minutos utilizando un perfilometro, se caracterizaron las superficies atacadas mediante SEM y se realizaron mediciones de circuito de potencial abierto y curvas de polarización. Para finalizar se determinó la influencia de las partículas intermetálicas sobre la velocidad de ataque.

English version:

Aluminium alloys AA5005 are widely used in architectural applications such as cladding in Great Britain as well as in the other main European Union contries. In this kind of applications it is desirable to produce the necessary rough topography to reduce light reflection, which is the reason why, prior to anodising, all alloys are treated with alkaline solutions. This etching rate is highly influence by the chemistry and microstructure of alloys as well as by the chemistry of solutions. The present work aims at determining the influence of the chemistry of solutions on the etching rate of aluminium, for which we used ultra pure aluminium [99.999 per cent Al] etched with alkaline solution containing dissolved ions from a series of model alloys. The etching rate at 60 C degrees over ten minutes was determined with the use of the open potential circuit and polarization curves were taken. Finally, the influence of intermetallic particles on the etching rate was determined.